SEM Двусторонняя полировка экспериментальные исследования высокой чистоты односторонняя Кремниевая пластина размер можно настроить

Особенности:Высокочистая Кремниевая si Одиночная кристаллическая подложка, N/P Тип опционально, сопротивление 0,0001-100 Ом, опционально

Роста режим:Straight без застежки

С украшением в виде кристаллов направленности:[111]/[100]/[110]

Это действительно плоский экран:<1 микрон (измеренная общая страница)

Область применения:1. PVD/CVD покрытие в качестве подложки

2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектральный анализ тестовая подложка, AFM (микроскоп атомной силы)

3. Synchrotron радиационный тест-носитель образца

4. Молекулярный пучок эпитаксиального роста подложки

5. Процесс полупроводниковой литографии и т. д.

Классификация:D12.7 ×2mm; d15×2mm; d20×2mm; d25×2mm; D25.4 ×2mm; d30×2mm; d50×2mm; D50.8 ×2mm.