Описание
Монокристаллическая Кремниевая пластина (двухсторонняя полировка)
Особенности: высокочистый кремний si Одиночная кристаллическая подложка, N/P Тип опционально, сопротивление 0,0001-100 Ом, опционально
Режим роста: прямая тяга
Кристалл направленности: [111]/[100]/[110]
Это действительно плоский экран по уровню поверхности: <1 микрон (измеряется в целом коробление)
Применение: 1. PVD/CVD покрытие в качестве подложки
2. Используется в качестве XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентный спектральный анализ тест
Подложка, AFM (микроскоп атомной силы)
3. Synchrotron радиационный тест-носитель образца
4. Молекулярный пучок эпитаксиального роста подложки
5. Процесс полупроводниковой литографии и т. д.
Примечание: другие размеры могут быть настроены и могут быть вызваны.
Характеристики
- Стандартный
- GB
- Наличие стандарта
- Стандарт
- Габаритные размеры
- Customizable
- Номер модели
- Customizable
- Материал
- Silica
Сопутствующие товары
