Описание
Технические характеристики:
Один с украшением в виде кристаллов,Двусторонняя полировка 2,3, 4 дюйма
Материал:
Высокая чистота кремния Si один кристалл подложки. П/п опционально.
Область применения:
1. PVD/CVD покрытие подложка
2. Используется как XRD (рентгеновский Дифракционный анализ), SEM (сканирующий электронный микроскоп), AFM (атомный силовой микроскоп), FTIR инфракрасный, флуоресцентная спектроскопия и другие аналитические тестовые подложки
3. Синхротронное излучение экспериментальный носитель образцов
4. Подложка для молекулярного пучка эпитаксиального выращивания
5. Полупроводниковый процесс литографии и так далее









Характеристики
- Стандартный
- ANSI
- Наличие стандарта
- Стандарт
- Материал
- Другое















